普通人可以研发光刻机吗？
可以呀，根据新闻报道，最近一位本科生自制光刻机的视频火了。是的，你没听错，大连理工大学化工学院的学生彭译锋，竟然凭着一张图纸成功在家里搭建了纳米级光刻机，还成功光刻出~75微米（75000纳米）的孔径。
这位同学还在读本科，整个制造过程都是在一间超简陋的小书桌上完成的，全部数学演算全靠一张白板，所有的材料都堆放在桌上地上，简直就是“家居实验室模范”。
光刻机怎么做？
光刻机是一种半导体制造中常用的设备，用于将芯片设计图案转移到硅片上。其主要工作原理是利用紫外光通过掩模将图案投射到硅片上，然后通过化学反应将图案转移到硅片表面。
光刻机的制作需要先设计和制作掩模，然后将硅片放置在光刻机上，调整光源和掩模的位置，进行曝光和显影等步骤。
光刻机是一种用于半导体制造的关键设备，用于将芯片电路图案转移到硅片上。下面是光刻机的基本工作流程：
1. 准备硅片：首先，准备一块干净平整的硅片作为基材。硅片表面可能需要经过清洁、去除杂质等处理。
1. 光刻机的操作方法相对复杂，需要经过专业的培训和实践才能熟练掌握。
2. 光刻机的操作原理是利用光敏物质对光的敏感性，通过光源照射和掩膜的作用，在光刻胶上形成所需的图案。
3. 在进行光刻机操作时，需要先准备好光刻胶和掩膜，将掩膜放置在光刻机的对准台上，并调整好对准位置。
然后，将光刻胶涂覆在待加工的基片上，并通过光源照射，使光刻胶发生化学反应。
最后，将基片进行后续的处理，如显影、蚀刻等步骤，以得到所需的图案。
4. 光刻机的操作需要严格控制环境条件，如温度、湿度等，以保证加工质量。
此外，操作过程中还需要注意安全事项，如佩戴防护眼镜、避免光源直接照射等。
5. 光刻机的应用范围广泛，常用于集成电路制造、光学元件制作等领域。
随着科技的发展，光刻技术也在不断进步，为微纳加工提供了重要的工具和方法。
光刻机是一种半导体工艺中常用的工具，用于制造微彩电子器件。光刻机的制作原理是将由图像编辑软件生成的掩膜转移到光敏材料表面，然后利用高功率UV光源进行曝光。曝光后，光致反应将图像转移到光敏材料表面，并通过化学蚀刻、沉积、离子注入等工艺步骤进一步制造微电子器件。
光刻机需要高精度的光学和机械系统，以保证所制造器件的准确性和精度。